Start Metody produkcji Próbki Właściwości próbek Zastosowania Cennik Kontakt

Analiza właściwości próbek

Analiza śladowych ilości zanieczyszczeń metodą XRF (X-ray Fluorescence)

D. Lisovytskiy et.al., IChF PAN

1. Materiał wyjściowy – grafit w proszku firmy ACROS

(XRF: fluorescencja rentgenowska)

Cl(0,5%) > Fe(0,15%) > S(0,08%) = Ca(0,08%) > K(0,03%) > Cu(0,02%) > Ti(0,01%) > Ni(0,008%)

2. Tlenek grafenu – folia GO

S(2,5%) > Ca(1%) > Mn(0,5%) > K(0,3%) > Cl(0,08%) = Fe(0,08%) > Cu(0,2%) = Zn(0,02%) > Ni(0,007%) > Cr(0,006%)

3. Zredukowany tlenek grafenu – proszek rGO

Cl(0,3%) > Mn(0,2%) > S(0,01%) = K(0,01%) = Fe(0,01%) > Ca(0,009%) > Cu(0,006%) > Ni(0,001%)

Analiza elementarna dla C, H, N

G. Trykowski et.al., WCh UMK

Analiza termograwimetryczna (TGA) dla grafitu, GO oraz rGO

G. Trykowski et.al., WCh UMK

Analiza spektroskopią Ramana

M. Mazurkiewicz, A. Małolepszy et.al., WIM PW


Próbka D pozycja D FWHM G pozycja G FWHM ID/IG D' pozycja ID'/IG 2D pozycja 2D FWHM I2D/IG
Grafit ACROS 1352 59 1580 21 0,20 1621 0,049 2686/2725 61/51 0,38
GO 1353 127 1560 70 1,87 1604 1,45 2701 178 0,22
RGO 1351 83 1582 63 1,48 1612 0,36 2714 199 0,22
(FWHM – full width at half maximum)

Analiza spektroskopią FTIR

M. Mazurkiewicz, A. Małolepszy et.al., WIM PW


Analiza metodą XPS 1)


1) L. Stobinski, B. Lesiak, A. Małolepszy, M. Mazurkiewicz, B. Mierzwa, J. Zemek, P. Jiricek, I. Bieloshapka, Graphene oxide and reduced graphene oxide studied by the XRD, TEM and electron spectroscopy methods, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, Vol. 195 (2014) pp. 145–154.

Zawartość atomowa C i O w grupach chemicznych dla GO, rGO oraz grafitu wyznaczona metodą XPS 1)


1) L. Stobinski, B. Lesiak, A. Małolepszy, M. Mazurkiewicz, B. Mierzwa, J. Zemek, P. Jiricek, I. Bieloshapka, Graphene oxide and reduced graphene oxide studied by the XRD, TEM and electron spectroscopy methods, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, Vol. 195 (2014) pp. 145–154.

Analiza metodą XRD 1)


Płaszczyzna 002 należy do grafitu (2Θ = 26,5 deg)

1) L. Stobinski, B. Lesiak, A. Małolepszy, M. Mazurkiewicz, B. Mierzwa, J. Zemek, P. Jiricek, I. Bieloshapka, Graphene oxide and reduced graphene oxide studied by the XRD, TEM and electron spectroscopy methods, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, Vol. 195 (2014) pp. 145–154.

Rezystancja cienkiej warstwy GO

L. Stobiński, NANOMATERIALS LS

Pomiar absorbancji

J. Szczytko et.al., IFD UW

Wielkość przerwy wzbronionej wynosi dla GO ok. 2,5 eV.

Cienkie, półprzewodzące warstwy GO można zastosować do produkcji różnego typu nanosensorów.

Model płatka GO

L. Stobiński, NANOMATERIALS LS

Dane z XRD, wartości uśrednione.

GO wykazuje strukturę stosu o wymiarach 21,7 × 5,4 nm (średnica × wysokość) z 6-7 warstwami tlenku grafenu w stosie i odległością między nimi równą 0,89 nm.

Model płatka rGO

L. Stobiński, NANOMATERIALS LS

Dane z XRD, wartości uśrednione.

rGO wykazuje strukturę stosu o wymiarach 7,7 × 1,2 nm (średnica × wysokość) z 2-4 warstwami zredukowanego tlenku grafenu w stosie i odległością między nimi równą 0,37 nm.
(dla grafitu d = 0,335 nm).

Jednakże obrazy SEM i TEM pokazują, że rozmiary płatków GO i RGO przewyższają niekiedy 50 µm. Tłumaczymy to tym, że XRD „uwzględnia” każdy załamek i bruzdkę na powierzchni płatka GO lub RGO, sztucznie zaniżając jego rozmiar.

Strona używa mechanizmu ciasteczek (cookie) do zbierania informacji statystycznych oraz przechowywania informacji o wybranym języku.